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高真空蒸发镀膜 

发布时间:2017/03/16
高真空蒸发镀膜

  一、设备简介:

  该设备为方型室蒸镀设备,可满足用户实现单质膜,多层膜及镀制复合膜的工艺要求。

  蒸镀室是以电阻加热的方式实现蒸发镀膜功能的,它是在高真空条件下,通过加热材料的方法,在需镀衬底上蒸镀各种金属单层或多层膜,适用于实验室制备金属、氧化物、介质、扫描电镜制样等,也可用作教学及生产线前期工艺试验等,整套设备操作简便,综合功能多,扩展空间大,适合及满足院校的教学与科研

  本设备由于采用了超高真空密封技术,极限真空高,恢复工作真空时间短;整机主要采用金属密封技术及超高真空阀门,前后开门采用氟胶圈,真空管路用不锈钢金属波纹管路,避免了传统结构带来的安装维护困难的问题。

  二、设备的主要配置及性能:

  蒸镀室配置:

  1、真空获取系统:

  1200L/S分子泵、KF40高真空截止阀、KF40波纹管管路、KF40不锈钢三通、KF40真空充气阀、高低真空计、CF200超高真空气动闸板阀一台、CF35超高真空气动角阀一支以及9L/S机械泵机组一套;

  2、镀膜样品载台:

  升降、旋转(含样品挡板)一套,升降、旋转功能可通过PLC控制系统进行控制;

  3、真空主机部分:

  主体采用304不锈钢,焊接后,对真空腔体进行表面处理,为亚光电解处理,前后门一套;

  4、镀膜检测系统:

  配备2支水冷晶振探头,一台自动控制膜厚仪;

  5、蒸发源:

  多套金属蒸发源(含控制电源)

  6、其他组成部分:

  主体承载机架一套、CF100观察窗组件一套、烘烤照明系统一套以及其他真空部件

  蒸镀室性能:

  高真空多功能蒸发设备主体均为优质不锈钢制造,耐腐蚀、抗污染、漏率小;设备电控部分采用了先进的检测和控制系统,配置了较先进的PLC触摸编程控制,为用户做多层膜提供了良好的设备功能保证,且保证了设备各功能的稳定和方便操作。性能稳定、可靠;设备布局合理,提高了利用率和稳定性,减少了对环境的干扰;控制面板的设计考虑了美观和适用的结合,使面板操作指示明确,观察舒适、操作方便。

  三、主要技术参数:

  1、极限真空度: ≤5×10-5