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高真空蒸发镀膜 

发布时间:2017/03/16
高真空蒸发镀膜

  有机/金属热蒸发—沉积镀膜设备,它是在高真空条件下,通过加热材料的方法,在衬底上沉积各种化合物、混合物单层或多层膜,主要用于有机半导体材料的物理化学性能研究实验、有机半导体器件的原理研究实验OLED实验研究。

  设备特点:

  1. 超高真空密封主要采用如下技术:玻璃金属焊接技术、陶瓷金属焊接技术、刀口无氧铜金属密封技术等,整机主要采用金属密封技术,前开门用氟胶圈,真空管路用不锈钢金属波纹管路,采用超高真空阀门。

  2. 运动部件的密封,采用磁力耦合动密封技术。

  2. 旋转部件的密封,采用磁流体密封技术。

  4. 基片加热器采用进口铠装加热丝结构。

  5. 蒸发舟配磁力耦合挡板,基片配磁力耦合挡板,保证镀膜的可控性。

  6.极限真空 5×10-5P

  7.基片加热600℃可以调控,控制精度±1℃。

  8.膜厚测试采用膜厚仪。