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磁控溅射性能参数 

发布时间:2017/03/16

  磁控溅射室可镀有效尺寸≦Φ50㎜衬底一片,基片加热温度:室温~1000℃,旋转速度1~20转/分。靶轴与真空室轴夹角70º靶面到衬底距离±50mm在线可调,偏摆可调±15°。极限真空:2×10-6Pa、恢复真空7×10-4Pa:30~40分钟(充干燥氮气)。